样品检测实例——掩膜版

样品名称：掩膜版测试要求：粗糙值

1.未加工（区域一）扫描范围5*5μm

粗糙度（Sa）：120.9pm注：1纳米（nm)=1000皮米(pm)

即：粗糙度（Sa）：0.1209nm

样品名称：掩膜版测试要求：粗糙值

2、加工（区域一）扫描范围5*5μm

粗糙度（Sa）：56.28pm注：1纳米（nm)=1000皮米(pm)

即：粗糙度（Sa）：0.05628nm

结论：从上述测试中可以看出，两块掩膜版，加工后的掩膜版比未加工的掩膜版粗糙度值更

小，也就是说加工后的掩膜版表面更光滑。

0.056nm已经接近原子力显微镜的纵向扫描分辨率的极限.我方曾测试过的上海新昇半导体的12吋晶圆样品，表面粗糙度值在60-65pm之间，它的粗糙度也只是0.06nm。可以看出，相对于晶圆，掩膜版的表面更光滑平整。

另外，原子力显微镜的扫描范围是可以设置的，此次扫描范围设置为5μm*5μm。